Mechanisms of Silicide Formation by Reactive Diffusion in Thin Films

Article Dans Une Revue Diffusion foundations Année : 2019

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Dominique Mangelinck

Matériaux

Fichier principal

2019_Mangelinck_Dif_Fond_chapter_silicide.pdf (2.01 Mo)

Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

https://hal.science/hal-02403179

Soumis le : lundi 14 décembre 2020-18:58:14

Dernière modification le : mardi 5 décembre 2023-18:08:07

Archivage à long terme le : lundi 15 mars 2021-20:16:08

hal-02403179 , version 1 (14-12-2020)

Dominique Mangelinck. Mechanisms of Silicide Formation by Reactive Diffusion in Thin Films. Diffusion foundations, 2019, 21, pp.1-28. ⟨10.4028/www.scientific.net/DF.21.1⟩. ⟨hal-02403179⟩

UNIV-TLN CNRS UNIV-AMU IM2NP

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