New strategies for producing strain engineered SiGe nanomembranes - Aix-Marseille Université Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2016
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01454799 , version 1 (03-02-2017)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01454799 , version 1

Citer

T. David, Abdelmalek Benkouider, L. Kailang, J.N. Aqua, A. Rond, et al.. New strategies for producing strain engineered SiGe nanomembranes. Journées Surfaces Interfaces, Jan 2016, Marseille, France. ⟨hal-01454799⟩
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