In-situ combined X-Ray diffraction and optical curvature measurements to study microstructure and stress induced during the crystallization of GeTe thin films - Aix-Marseille Université Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2017

In-situ combined X-Ray diffraction and optical curvature measurements to study microstructure and stress induced during the crystallization of GeTe thin films

M. Gallard
  • Fonction : Auteur
M.S. Amara
  • Fonction : Auteur
F. Lauraux
  • Fonction : Auteur
C. Guichet
  • Fonction : Auteur
M.-I. Richard
Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
CV
S. Escoubas
Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
C. Mocuta
P. Noé
  • Fonction : Auteur
C. Sabbione
  • Fonction : Auteur
F. Hippert
Magali Putero
Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
N. Burle
  • Fonction : Auteur
O. Thomas
  • Fonction : Auteur
Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

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https://amu.hal.science/hal-01781799

Soumis le : lundi 30 avril 2018-17:10:54

Dernière modification le : lundi 22 avril 2024-14:36:34

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01781799 , version 1 (30-04-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01781799 , version 1

Citer

M. Gallard, M.S. Amara, F. Lauraux, C. Guichet, M.-I. Richard, et al.. In-situ combined X-Ray diffraction and optical curvature measurements to study microstructure and stress induced during the crystallization of GeTe thin films. MAM2017 – Materials for Advanced Metallization Conference, Mar 2017, Dresden, Germany. ⟨hal-01781799⟩

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