Transition from anomalous kinetics toward Fickian diffusion for Si dissolution into amorphous Ge
Zoltan Balogh
(1)
,
Zoltán Erdélyi
,
Dezső Beke
,
Gábor Langer
,
Attila Csik
(2)
,
Hans-Gerd Boyen
,
Ulf Wiedwald
(3)
,
Paul Ziemann
(3)
,
Alain Portavoce
(4)
,
Christophe Girardeaux
(5, 4)
1
UNIBE -
Universität Bern / University of Bern
2 ATOMKI - Institute for Nuclear Research [Budapest]
3 Universität Ulm - Ulm University [Ulm, Allemagne]
4 IM2NP - Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
5 L2MP - Laboratoire matériaux et microélectronique de Provence
2 ATOMKI - Institute for Nuclear Research [Budapest]
3 Universität Ulm - Ulm University [Ulm, Allemagne]
4 IM2NP - Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
5 L2MP - Laboratoire matériaux et microélectronique de Provence
Zoltán Erdélyi
- Fonction : Auteur
Dezső Beke
- Fonction : Auteur
Gábor Langer
- Fonction : Auteur
Hans-Gerd Boyen
- Fonction : Auteur
Christophe Girardeaux
- Fonction : Auteur
- PersonId : 172869
- IdHAL : christophe-girardeaux
- ORCID : 0000-0002-7159-3785
- IdRef : 078779375