Tungsten diffusion in silicon

A. de Luca; A. Portavoce; M. Texier; C. Grosjean; N. Burle; V. Oison; B. Pichaud

doi:10.1063/1.4859455

Journal Articles Journal of Applied Physics Year : 2014

Tungsten diffusion in silicon

(1) , (2) , (2) , , (2) , (3) ,

1
2
3

A. de Luca

Function : Author

Department of Physics, Licryl

A. Portavoce

Function : Author

Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence

M. Texier

Function : Author

Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence

C. Grosjean

Function : Author

N. Burle

Function : Author

Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence

V. Oison

Function : Author

Groupe matière condensée et matériaux

B. Pichaud

Function : Author

Domains

Materials Science [cond-mat.mtrl-sci]

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https://hal-amu.archives-ouvertes.fr/hal-02385347

Submitted on : Thursday, November 28, 2019-5:25:30 PM

Last modification on : Friday, March 24, 2023-2:53:14 PM

Dates and versions

hal-02385347 , version 1 (28-11-2019)

Identifiers

HAL Id : hal-02385347 , version 1
DOI : 10.1063/1.4859455

Cite

A. de Luca, A. Portavoce, M. Texier, C. Grosjean, N. Burle, et al.. Tungsten diffusion in silicon. Journal of Applied Physics, 2014, 115 (1), pp.013501. ⟨10.1063/1.4859455⟩. ⟨hal-02385347⟩

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