Journal articles
Highly Textured Mn15Si26 Film Obtained by High-Temperature Treatment
M.S. Belkaid
Author
M.-C. Record 1
Author IdHAL : marie-christine-record ResearcherId : http://www.researcherid.com/rid/A-2635-2011 ORCID : https://orcid.org/0000-0002-6637-6874
1
IM2NP - Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence (Faculté des Sciences
Avenue Escadrille Normandie Niemen
Case 142
13397 Marseille Cedex 20 - France)
- UTLN - Université de Toulon : UMR7334 /UMR6242 (Avenue de l'Université - BP 20132 - 83957 La Garde Cedex - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR7334 /UMR6242 (France)
- AMU - Aix Marseille Université : UMR7334 /UMR6242 (Aix-Marseille Université Jardins du Pharo 58 Boulevard Charles Livon 13284 Marseille cedex 7 - France)
2
LISPEN - Laboratoire d’Ingénierie des Systèmes Physiques et Numériques (F-13617 Aix-en-Provence F-71100 Chalon-Sur-Saône F-59000 Lille - France)
- Arts et Métiers Sciences et Technologies (151 boulevard de l'Hôpital 75013 Paris - France)
- HESAM - HESAM Université (15, rue Soufflot 75005 Paris - France)
Document type :
Journal articles
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https://hal-amu.archives-ouvertes.fr/hal-02385375
Contributor : Alain Portavoce <>
Submitted on : Thursday, November 28, 2019 - 5:32:27 PM
Last modification on : Tuesday, March 30, 2021 - 3:23:57 AM
Contributor : Alain Portavoce <>
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Identifiers
- HAL Id : hal-02385375, version 1
- DOI : 10.1007/s11664-012-2257-5
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Citation
R. Zirmi, A. Portavoce, R. Delattre, O. Thomas, M.S. Belkaid, et al.. Highly Textured Mn15Si26 Film Obtained by High-Temperature Treatment. Journal of Electronic Materials, Institute of Electrical and Electronics Engineers, 2012, 41 (12), pp.3423-3426. ⟨10.1007/s11664-012-2257-5⟩. ⟨hal-02385375⟩
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