Dopant diffusivity and solubility in nickel silicides

Ivan Blum; Alain Portavoce; Khalid Hoummada; Gamra Tellouche; Lee Chow; Dominique Mangelinck; Véronique Carron

doi:10.1002/pssc.201000283

Journal Articles physica status solidi (c) Year : 2011

Dopant diffusivity and solubility in nickel silicides

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1

Ivan Blum

Function : Author
PersonId : 175054
IdHAL : blum-ivan
ORCID : 0000-0002-4729-6510
IdRef : 152919120

Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence

CV

Alain Portavoce

Function : Author

Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence

Khalid Hoummada

Function : Author

Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence

Gamra Tellouche

Function : Author

Lee Chow

Function : Author

Dominique Mangelinck

Function : Author
PersonId : 17430
IdHAL : dominique-mangelinck
ORCID : 0000-0002-3429-1948
IdRef : 086297600

Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence

Véronique Carron

Function : Author

Domains

Physics [physics] Condensed Matter [cond-mat] Materials Science [cond-mat.mtrl-sci]

Alain Portavoce : Connect in order to contact the contributor

https://hal-amu.archives-ouvertes.fr/hal-02385407

Submitted on : Thursday, November 28, 2019-5:43:27 PM

Last modification on : Friday, March 24, 2023-2:53:14 PM

Dates and versions

hal-02385407 , version 1 (28-11-2019)

Identifiers

HAL Id : hal-02385407 , version 1
DOI : 10.1002/pssc.201000283

Cite

Ivan Blum, Alain Portavoce, Khalid Hoummada, Gamra Tellouche, Lee Chow, et al.. Dopant diffusivity and solubility in nickel silicides. physica status solidi (c), 2011, 8 (3), pp.670-673. ⟨10.1002/pssc.201000283⟩. ⟨hal-02385407⟩

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