Article Dans Une Revue
physica status solidi (c)
Année : 2011
Alain Portavoce : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://amu.hal.science/hal-02385407
Soumis le : jeudi 28 novembre 2019-17:43:27
Dernière modification le : mardi 5 décembre 2023-18:08:07
Citer
Ivan Blum, Alain Portavoce, Khalid Hoummada, Gamra Tellouche, Lee Chow, et al.. Dopant diffusivity and solubility in nickel silicides. physica status solidi (c), 2011, 8 (3), pp.670-673. ⟨10.1002/pssc.201000283⟩. ⟨hal-02385407⟩
24
Consultations
0
Téléchargements