Article Dans Une Revue
Thin Solid Films
Année : 2010
Alain Portavoce : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://amu.hal.science/hal-02386094
Soumis le : vendredi 29 novembre 2019-10:47:42
Dernière modification le : mardi 5 décembre 2023-18:08:07
Citer
N. Rodriguez, A. Portavoce, J. Delalleau, C. Grosjean, V. Serradeil, et al.. Arsenic and phosphorus codiffusion during silicon microelectronic processes. Thin Solid Films, 2010, 518 (17), pp.5022-5027. ⟨10.1016/j.tsf.2010.03.039⟩. ⟨hal-02386094⟩
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