Triple-junction contribution to diffusion in nanocrystalline Si - Aix-Marseille Université Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied Physics Letters Année : 2010

Triple-junction contribution to diffusion in nanocrystalline Si

L. Chow
  • Fonction : Auteur
J. Bernardini
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-02386097 , version 1 (29-11-2019)

Identifiants

Citer

A. Portavoce, L. Chow, J. Bernardini. Triple-junction contribution to diffusion in nanocrystalline Si. Applied Physics Letters, 2010, 96 (21), pp.214102. ⟨10.1063/1.3435476⟩. ⟨hal-02386097⟩
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