B diffusion in implanted Ni2Si and NiSi layers

I. Blum (1) , A. Portavoce (1) , L. Chow , D. Mangelinck (1) , K. Hoummada (1) , G. Tellouche , V. Carron (2)

1 IM2NP - Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
2 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

Domaines: Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

I. Blum, A. Portavoce, L. Chow, D. Mangelinck, K. Hoummada, et al.. B diffusion in implanted Ni2Si and NiSi layers. Applied Physics Letters, 2010, 96 (5), pp.054102. ⟨10.1063/1.3303988⟩. ⟨hal-02386108⟩