Measurement of As diffusivity in Ni2Si thin films

I. Blum (1) , A. Portavoce (1) , D. Mangelinck (1) , R. Daineche , K. Hoummada (1) , J.L. Labar (2) , V. Carron (3) , J. Bernardini

1 IM2NP - Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
2 MTA EK MFA, Konkoly Thege, Hungary
3 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

Domains: Physics [physics]; Condensed Matter [cond-mat]; Materials Science [cond-mat.mtrl-sci]

I. Blum, A. Portavoce, D. Mangelinck, R. Daineche, K. Hoummada, et al.. Measurement of As diffusivity in Ni2Si thin films. Microelectronic Engineering, 2010, 87 (3), pp.263-266. ⟨10.1016/j.mee.2009.05.020⟩. ⟨hal-02386115⟩