Article Dans Une Revue
Defect and Diffusion Forum
Année : 2012
Alain Portavoce : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://amu.hal.science/hal-02393983
Soumis le : mercredi 4 décembre 2019-15:48:32
Dernière modification le : mardi 5 décembre 2023-18:08:07
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02393983 , version 1
- DOI : 10.4028/www.scientific.net/DDF.323-325.415
Citer
Ivan Blum, Alain Portavoce, Lee Chow, Khalid Hoummada, Dominique Mangelinck. Diffusion and Redistribution of Boron in Nickel Silicides. Defect and Diffusion Forum, 2012, 323-325, pp.415-420. ⟨10.4028/www.scientific.net/DDF.323-325.415⟩. ⟨hal-02393983⟩
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