T. I. Kamins, J. Manoliu, R. N. Tucker, and T. , J. Appl. Phys, vol.43, p.83, 1972.

K. Sakamoto, K. Nishi, T. Yamaji, T. Miyoshi, and S. Ushio, J. Electrochem. Soc, vol.132, pp.2457-2462, 1985.

A. Merabet and C. Gontrand, Mat. Science and Eng, vol.102, pp.257-261, 2003.

B. Semmache, A. Merabet, C. Gontrand, and A. Laugier, Mat. Science and Engin, vol.38, p.41, 1996.

J. M. Jacques, L. S. Robertson, and K. S. Jones, Appl. Phys. Lett, vol.82, pp.3469-3471, 2003.

R. Duffy, V. C. Venezia, A. Heringa, T. W. Husken, M. J. Hopstaken et al., Appl. Phys. Lett, vol.82, pp.3647-3649, 2003.

R. Duffy, V. C. Venezia, A. Heringa, B. J. Pawlak, M. J. Hopstaken et al., Appl. Phys. Lett, vol.84, pp.4283-4285, 2004.

V. C. Venezia, R. Duffy, L. Pelaz, M. J. Hopstaken, G. C. Maas et al., Mat. Science and Engin. B124, vol.125, pp.245-248, 2005.

R. Bisaro, J. Magarino, K. Zellama, S. Squelard, P. Germain et al., Phys. Rev. B, vol.31, pp.3568-3575, 1985.

H. Cheng, F. Wang, Y. Huang, and C. Huang, J. Electrochem. Soc, vol.142, pp.3574-3578, 1995.

V. R. Deline, W. Katz, C. A. Evans, J. , and P. Williams, J. Appl. Phys, vol.33, p.832, 1978.

P. Pichler, Mat. Res. Soc. Symp. Proc, vol.717, p.103, 2002.

L. Pelaz, M. Jaraiz, G. H. Gilmer, H. Gossmann, C. S. Rafferty et al., Appl. Phys. Lett, vol.70, p.2285, 1997.

X. Liu, W. Windl, and M. P. Masquelier, Appl. Phys. Lett, vol.77, p.2018, 2000.

P. Alippi, P. Ruggerone, and L. Colombo, Phys. Rev. B, vol.69, p.125205, 2004.

G. Mannino, N. E. Cowern, F. Roozeboom, and J. G. Van-berkum, Appl. Phys. Lett, vol.76, p.855, 2000.

A. D. Lilak, M. E. Law, L. Radic, K. S. Jones, and M. Clark, Appl. Phys. Lett, vol.81, p.2244, 2002.

S. Mirabella, E. Bruno, F. Priolo, D. Salvador, E. Napolitani et al., Appl. Phys. Lett, vol.83, p.680, 2003.

A. M. Piro, L. Romano, S. Mirabella, and M. G. Grimaldi, Appl. Phys. Lett, vol.86, p.81906, 2005.

. Depth, , p.0

, Depth (angstroms)

L. Romano, A. M. Piro, S. Mirabella, M. G. Grimaldi, and E. Rimini, Appl. Phys. Lett, vol.87, p.201905, 2005.

J. S. Custer, M. O. Thompson, D. C. Jacobson, J. M. Poate, S. Roorda et al., (left) and phosphorus (right) profiles after T=800°C 5h thermal annealing, Appl. Phys. Lett, vol.64, pp.437-439, 1994.

S. Solmi, E. Landi, and F. Baruffaldi, J. Appl. Phys, vol.68, p.3250, 1990.

. B-p-concentration, , p.3