Application of static masking technique in Magnetron Sputtering Technology for the production of linearly variable filters - Aix-Marseille Université Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue CEAS Space Journal Année : 2021

Application of static masking technique in Magnetron Sputtering Technology for the production of linearly variable filters

Thomas Begou
  • Fonction : Auteur
Frédéric Lemarquis
  • Fonction : Auteur
Antonin Moreau
  • Fonction : Auteur
Fabien Lemarchand
  • Fonction : Auteur
Holger Reus
  • Fonction : Auteur
Detlef Arhilger
  • Fonction : Auteur
Harro Hagedorn
  • Fonction : Auteur
Julien Lumeau

Résumé

Variable filters are key components for compact spectral imagers. In this paper, we present a method for the fabrication of linearly variable filters based on Bühler HELIOS machine (plasma assisted reactive magnetron sputtering). These filters are obtained by producing a variation of the thickness of all the layers of the coating, using adapted masks placed in between the sputtering targets for the low and high refractive index materials and the substrates. Variable band pass filter from 550 nm up to 1000 nm is demonstrated.
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LVF_CEAS_Lumeau_Reviewed-2.pdf (994.3 Ko) Télécharger le fichier
Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-03407033 , version 1 (28-10-2021)

Identifiants

Citer

Thomas Begou, Frédéric Lemarquis, Antonin Moreau, Fabien Lemarchand, Holger Reus, et al.. Application of static masking technique in Magnetron Sputtering Technology for the production of linearly variable filters. CEAS Space Journal, 2021, ⟨10.1007/s12567-021-00402-3⟩. ⟨hal-03407033⟩
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