Lattice and grain-boundary diffusion of As in Ni2Si

Ivan Blum (1) , A. Portavoce (1) , D. Mangelinck (1) , R. Daineche , K. Hoummada (1) , J. Lábár , V. Carron (2) , C. Perrin (3)

1 IM2NP - Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
2 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
3 CRLCC - CRLCC Eugène Marquis

Domaines: Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Ivan Blum, A. Portavoce, D. Mangelinck, R. Daineche, K. Hoummada, et al.. Lattice and grain-boundary diffusion of As in Ni2Si. Journal of Applied Physics, 2008, 104 (11), pp.114312. ⟨10.1063/1.3035836⟩. ⟨hal-02386151⟩