Article Dans Une Revue
Applied Physics Letters
Année : 2010
Olivier Palais : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://amu.hal.science/hal-03350227
Soumis le : mardi 21 septembre 2021-10:50:33
Dernière modification le : mercredi 24 avril 2024-11:28:54
Citer
B. Rezgui, A. Sibai, T. Nychyporuk, M. Lemiti, G. Bremond, et al.. Effect of total pressure on the formation and size evolution of silicon quantum dots in silicon nitride films. Applied Physics Letters, 2010, 96 (18), pp.183105. ⟨10.1063/1.3427386⟩. ⟨hal-03350227⟩
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